Patent Name:一种印染废水深度处理回用系统及方法

Patent Number:2010101208776

Place of Registration:中国

Type:机械

Class:机械

Contacts:温建梅
Contact Information:020-38743199
Patent Profile:
当前权利人：华南师范大学
本发明公开了一种印染废水深度处理回用系统及方法。该系统包括中间水池、酸化池、盐水池、电化学系统、pH中和池和回用水池；所述中间水池、酸化池、电化学系统、pH中和池和回用水池依次连接；所述盐水池的输入端与中间水池相连，输出端与电化学系统相连。方法包括步骤：将经过传统印染废水厌氧-好氧-混凝处理的尾水经中间水池均量均质后引入酸化池中，用硫酸将尾水pH值调至酸性，再将酸化的尾水泵入电化学系统中；与盐水池输入的浓盐水混合后进行电解氧化；然后将电解氧化后的尾水引入pH中和池中，用烧碱调pH至7～9，最后送入回用水池中进行排放或回用。本发明不需另外添加任何氧化还原剂，运行费用低，且无二次污染。

Patent Name:一种同时多点激发与匹配接收的光声三维成像装置及方法

Patent Number:201710772485X

Place of Registration:中国

Type:机械

Class:机械

Contacts:温建梅
Contact Information:020-38743199
Patent Profile:
当前权利人：华南师范大学
本发明公开了一种同时多点激发与匹配接收的光声三维成像装置及方法，装置中，计算机处理系统控制光声信号激发系统的启闭，接收光声信号预处理系统处理后的数据并处理数据后进行重建成像，控制三维扫描系统的运行；光声信号激发系统将脉冲激光整形为线形光源后利用微透镜阵列聚焦出多个光焦点，多个光焦点同时激发样品产生多源光声信号；光声信号接收系统并行接收多源光声信号；光声信号预处理系统对多源光声信号进行放大和滤波，将信号发送到计算机处理系统；待成像样品放置在一水槽中，三维扫描系统用于调节水槽和光声信号激发系统的空间位置。本发明利用微透镜阵列和线性声探测阵列的空间布局，可实现快速、大范围的光声三维成像。

Patent Name:一种细菌靶向纳米粒子的制备及其抑杀细菌的应用

Patent Number:2017109406300

Place of Registration:中国

Type:机械

Class:机械

Contacts:温建梅
Contact Information:020-38743199
Patent Profile:
当前权利人：华南师范大学
本发明公开了一种细菌靶向纳米粒子的制备及其抑杀细菌的应用。该细菌靶向纳米粒子通过结构如式(Ⅰ)所示的带有靶向片段的两亲性聚合物进行自组装制备得到。本发明通过使用光敏剂和甲基丙烯酸二甲氨基乙酯制备聚(N, N?二甲基氨乙基甲基丙烯酸酯)?共聚?聚光敏剂，再以此为大分子链转移剂和甲基丙烯酸正丁酯为疏水单元进行第二嵌段的聚合，并可将其羧基活化与细菌靶向肽连接，通过自组装形成在水中可溶的纳米粒子。得到的纳米粒子可以通过细菌靶向肽选择性的与细菌结合，提高材料的安全性；光动力和物理作用联合抗菌方式提高材料的抗菌活性，同时还不易使细菌产生耐药性，可广泛的应用于抑菌、杀菌领域。